AIXTRON erhöht Prognose für Auftragseingänge, Umsatzerlöse und EBIT-Marge

AIXTRON SE (FWB: AIXA) erhöht seine Jahresprognose. Das weltweit zu den führenden Anbietern von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie gehörende Unternehmen konnte kurzfristig eine Reihe von Großaufträgen buchen und erwartet auch für den Rest des Jahres eine starke Kundennachfrage. Diese sehr positive und über den Erwartungen liegende Auftragslage wird zu einer Erhöhung von Auslieferungen und Umsatzerlösen im Geschäftsjahr 2021 führen.

Zudem werden die Auftragseingänge im zweiten Quartal 2021 auf dem hohen Niveau des ersten Quartals 2021 erwartet.

Dementsprechend erhöht der Vorstand die Prognose für das Geschäftsjahr 2021 und erwartet Auftragseingänge in einer Bandbreite von EUR 420 Mio. bis EUR 460 Mio. (zuvor: am oberen Ende von EUR 340 Mio. bis EUR 380 Mio.), Umsatzerlöse von EUR 400 Mio. bis EUR 440 Mio. (zuvor: am oberen Ende von EUR 320 Mio. bis EUR 360 Mio.), eine Bruttomarge von etwa 40% des Umsatzes (zuvor: etwa 40%) und eine EBIT-Marge von 20% bis 22% des Umsatzes (zuvor: rund 18%).

Zukunftsgerichtete Aussagen
Dieses Dokument kann zukunftsgerichtete Aussagen über das Geschäft, die Finanz- und Ertragslage und Gewinnprognosen von AIXTRON enthalten. Begriffe wie "können", "werden", "erwarten", "rechnen mit", "erwägen", "beabsichtigen", "planen", "glauben", "fortdauern" und "schätzen", Abwandlungen solcher Begriffe oder ähnliche Ausdrücke kennzeichnen diese zukunftsgerichteten Aussagen. Solche zukunftsgerichtete Aussagen geben die gegenwärtigen Beurteilungen, Erwartungen und Annahmen des AIXTRON Managements, von denen zahlreiche außerhalb des AIXTRON Einflussbereiches liegen, wieder und gelten vorbehaltlich bestehender Risiken und Unsicherheiten. Sie sollten kein unangemessenes Vertrauen in die zukunftsgerichteten Aussagen setzen. Sollten sich Risiken oder Ungewissheiten realisieren oder sollten zugrunde liegende Erwartungen zukünftig nicht eintreten beziehungsweise es sich herausstellen, dass Annahmen nicht korrekt waren, so können die tatsächlichen Ergebnisse, Leistungen und Erfolge von AIXTRON wesentlich von denjenigen Ergebnissen abweichen, die ausdrücklich oder implizit in der zukunftsgerichteten Aussage genannt worden sind.. Dies kann durch Faktoren verursacht werden, wie zum Beispiel die tatsächlich von AIXTRON erhaltenen Kundenaufträge, den Umfang der Marktnachfrage nach Depositionstechnologie, den Zeitpunkt der endgültigen Abnahme von Erzeugnissen durch die Kunden, das Finanzmarktklima und die Finanzierungsmöglichkeiten von AIXTRON, die allgemeinen Marktbedingungen für Depositionsanlagen, und das makroökonomische Umfeld, Stornierungen, Änderungen oder Verzögerungen bei Produktlieferungen, Beschränkungen der Produktionskapazität, lange Verkaufs- und Qualifizierungszyklen, Schwierigkeiten im Produktionsprozess, die allgemeine Entwicklung der Halbleiterindustrie, eine Verschärfung des Wettbewerbs, Wechselkursschwankungen, die Verfügbarkeit öffentlicher Mittel, Zinsschwankungen bzw. Änderung verfügbarer Zinskonditionen, Verzögerungen bei der Entwicklung und Vermarktung neuer Produkte, eine Verschlechterung der allgemeinen Wirtschaftslage sowie durch alle anderen Faktoren, die AIXTRON in öffentlichen Berichten und Meldungen, insbesondere im Abschnitt Risiken des Jahresberichts, beschrieben hat. In dieser Mitteilung enthaltene zukunftsgerichtete Aussagen beruhen auf den gegenwärtigen Einschätzungen und Prognosen des Vorstands basierend auf den zum Zeitpunkt dieser Mitteilung verfügbaren Informationen. AIXTRON übernimmt keine Verpflichtung zur Aktualisierung oder Überprüfung zukunftsgerichteter Aussagen wegen neuer Informationen, künftiger Ereignisse oder aus sonstigen Gründen, soweit keine ausdrückliche rechtliche Verpflichtung besteht.

Dieses Dokument liegt ebenfalls in englischer Übersetzung vor, bei Abweichungen geht die deutsche maßgebliche Fassung des Dokuments der englischen Übersetzung vor.

Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT(R), AIXTRON(R), Atomic Level SolutionS(R), Close Coupled Showerhead(R), CRIUS(R), Gas Foil Rotation(R), Optacap(TM), OVPD(R), Planetary Reactor(R), PVPD(R), TriJet(R)

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